368令人恐惧的精度代差 (第2/2页)

要知道传统的一台EUA光刻机工作24小时就需要消耗3万度电，在整个工业领域中是出了名的超级电老虎！
　　
　　譬如现目前半导体产量最大的湾积电厂，它一整年的耗电量就达到了143亿度，一座厂相当于一个千万级居住人口城市一整年的耗电量。
　　
　　在如此庞大的电力供应下，EUA光刻机本身的电路系统必须做到极高的稳定性。
　　
　　一旦出现电压不稳，很容易出现短路损坏光刻机内部精密的电子元件。
　　
　　而陈决造出的这台白色光刻机，其精度更是比普通EUA光刻机高出了几十倍，再加上体型的收缩，内部的电路走线更是被陈决大幅度魔改了一番。
　　
　　想要给这台机器供上电可不是容易的事情，为此林卫国等人还特意将地下工事的输电电缆进行了一阵改造，搭配上了特高压的输送电口。
　　
　　等到电源线一搭，庞大的电力开始正式输入，洁白无瑕的机体外壳上亮起来一个四方、简约、内置的操控面板。
　　
　　只是这会儿控制面板内并没有导入光刻程序，因为陈决造的只是裸机，想要让它进行运作流片还得导入特定的EDA设计程序才行。
　　
　　好在光电所这边最不缺的就是芯片设计程序！
　　
　　在边上讨论了片刻后，林卫国就在陈决的指导下，将一块大型数据盘插入了机器当中，顺带从里面读取了一份最新型的芯片设计图出来。
　　
　　“果然是原子级别的精度！”
　　
　　“连XYZ轴的参数都注明了极限位移能够达到0.1纳米！”
　　
　　“0.1纳米的干式光刻？我感觉自己就像是在做梦！”几个陪同操作的技术人员看到显示器上的数据后，都忍不住惊叹了起来。
　　
　　反倒是林卫国在旁边有些苦涩地抿了抿嘴。
　　
　　因为0.1纳米这个加工精度完全超出了他们所的芯片设计图纸精度上限！
　　
　　要知道，现目前的集成电路设计图可是动不动就包含上百亿个晶体管。
　　
　　像最新型的麒麟系列9000芯片，内置了CPU和GPU两种功能，它的晶体管数量更是达到了150亿以上。
　　
　　这还只是运用了传统的5纳米工艺！
　　
　　一旦提高到0.1纳米，相当于把加工精度在原有基础上提升了50倍。
　　
　　光刻的精度越高，晶体管之间的间隔缝隙被缩小，一块芯片上能被利用的空间就会被近乎无限一样放大。
　　
　　加工精度高了50倍以后，单块同样大小的麒麟芯片上的晶体管数量，可不是简单的1×50那样提升。
　　
　　而是会呈现指数级爆拉！
　　
　　能一口气把晶体管干到千亿甚至万亿以上！
　　
　　可问题是，这种堪称魔鬼一样的超级芯片的机器确实是被陈决搞出来了，但是相应适合0.1纳米工艺芯片图纸却没有现成的。
　　
　　毕竟种花家在EDA芯片设计这块同样与国外存在不小的代差，能研发EDA图纸的企业和单位放眼全国都是寥寥无几。
　　
　　哪怕是林卫国所在的光电所，最高也只能拿出几款百亿级的芯片设计图。
　　
　　面对眼前这台陌生的白色机器，此刻的林卫国感觉自己像是回到了自己刚参加工作时，曾经参加过某个国外大型半导体产业论坛时的一次趣谈。
　　
　　在那次论坛上，林卫国遇到了一个外企高管，那位外企高管见他是个种花家人就私下半开玩笑的说道：“伱们种花家不行！因为就算给你们EUA光刻机的全部设计图纸，你们的配套工艺跟不上，也一样加工不出来。”
　　
　　那种技术之间的壁垒代差，在当时的林卫国眼里就好像老婆跟人跑了一样，满脑子的无力感与恐惧感让他记忆深刻。
　　
　　但是经过了几十年的奋发追赶，那种对技术代差的恐惧感早就被林卫国拋到了脑后。
　　
　　直到他遇到了陈决造出的这台白色光刻机！
　　
　　那种无力感再次从记忆深处涌了上来！
　　
　　“还好……还好这台机器是我们自己人搞出来的……”
　　
　　林卫国在机器前汗流浃背地稍稍安慰了一下自己，他感觉就这一会儿功夫，自己身上流的汗比以往整个夏天都多。
　　
　　(本章完)